박막저항기 특성에 미치는 제조 공정 인자의 영향

• 영문명: Effect of Manufacturing Parameters on Characteristic of Thin Film Resistor
• 발행기관: 한국마이크로전자및패키징학회
• 간행물 정보: 『마이크로전자 및 패키징학회지』제12권 제1호, 1~7쪽, 전체 7쪽
• 주제분류: 공학 > 산업공학
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2005.03.31

국문 초록

저항 값을 맞추기 위한 트리밍 공정이 낮은 저항온도계수와 높은 정밀성을 요구하는 박막저항기 특성에 미치는 영향에 대한 연구가 수행되었다. 스퍼터링 방법으로 제조된 박막 저항기의 트리밍 속도에 따른 저항기의 특성 변화와 온도계수의 변화가 관찰되었다. 트리밍 속도의 증가에 따라서 박막 저항기 특성은 저하되었으며, 열처리로 저항 값의 평균 편차 0.26% 및 저항온도계수 52.77[ppm/K]의 개선효과가 있었다. 1kΩ와 10kΩ저항기가 100kΩ 박막저항기 보다는 특성이 양호하였으며, 트리밍 속도의 치적 조건으로는 20mm/sec와 특성 개선을 할 수 있는 최적 열처리 온도는 593K였으며 최적 조건에서 제작된 저항기의 저항 값의 평균 편차는 0.31% 및 저항온도계수 10(ppm/K)미만이었다.

영문 초록

The effect of trimming process to adjust accurate resistance of a thin-film resistor was studied with respect to low temperature coefficient of resistance(TCR) and high precision. The characteristics of a thin-film resistor fabricated by sputtering were investigated depending on trimming condition and annealing temperature. Measured results showed that the characteristic of a thin-film resistor was degraded with increased trimming speed. However, an average resistance deviation and a TCR were improved to 0.26% and 52.77[ppm/K], respectively, through annealing treatment. Also, thin-film resistors with 1 kΩ and 10kΩ showed better performance compared to a resistor with 100kΩ. The Optimal trimming speed and annealing temperature were 20mm/sec and 539K, respectively, and under this optimal condition, a thin-film resistor with an average resistance deviation of 0.31% and a TCR of below 10[ppm/K] was obtained.

목차

1. 서론

2. 실험 방법

3. 실험결과 및 고찰

4. 결론

참고문헌

키워드

thin film resistor manufacturing parameters temperature coefficient of resistance