학술논문
Joule-heating Induced Crystallization (JIC) of Amorphous Silicon Films
이용수 0
- 영문명
- 발행기관
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 저자명
- 간행물 정보
- 『마이크로전자 및 패키징학회지』제25권 제4호, 101~104쪽, 전체 4쪽
- 주제분류
- 공학 > 산업공학
- 파일형태
- 발행일자
- 2018.12.31
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국문 초록
영문 초록
An electric field was applied to a Mo conductive layer in the sandwiched structure of $glass/SiO_2/Mo/SiO_2/a-Si$ 수식 이미지 to induce Joule heating in order to generate the intense heat needed to carry out the crystallization of amorphous silicon. Polycrystalline silicon was produced via Joule heating through a solid state transformation. Blanket crystallization was accomplished within the range of millisecond, thus demonstrating the possibility of a new crystallization route for amorphous silicon films. The grain size of JIC poly-Si can be varied from few tens of nanometers to the one having the larger grain size exceeding that of excimer laser crystallized (ELC) poly-Si according to transmission electron microscopy. We report here the blanket crystallization of amorphous silicon films using the $2^{nd}$ 수식 이미지 generation glass substrate.
목차
1. Introduction
2. Experimental
3. Results and Discussion
4. Summary
Acknowledgements
References
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