학술논문
펄스도금법을 이용한 고내마모성 로듐 도금층 형성에 관한 연구
이용수 2
- 영문명
- Electroplating of High Wear Resistant Rhodium using Pulse Current Plating Method
- 발행기관
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 저자명
- 간행물 정보
- 『마이크로전자 및 패키징학회지』제26권 제2호, 51~54쪽, 전체 4쪽
- 주제분류
- 공학 > 산업공학
- 파일형태
- 발행일자
- 2019.06.30
4,000원
구매일시로부터 72시간 이내에 다운로드 가능합니다.
이 학술논문 정보는 (주)교보문고와 각 발행기관 사이에 저작물 이용 계약이 체결된 것으로, 교보문고를 통해 제공되고 있습니다.
국문 초록
실리콘 기판상에 여러 조건의 전류밀도에서 로듐 도금을 실시하였다. 직류전원의 경우 전류밀도가 증가하면 로듐 표면에 균열이 발생하였다. 잔류응력을 낮추기 위하여 펄스전류를 인가하였다. 펄스전류의 off 시간이 도금층의 잔류응력을 낮추는데 영향을 주었다. 펄스전류의 인가 주기를 5:5로 하였을 경우 균열 없는 로듐 도금층을 얻었다.
영문 초록
The electrodeposition of rhodium (Rh) on silicon substrate at different current conditions were investigated. The cracks were found at high current density during the direct current (DC) plating. The pulse current (PC) plating were applied to avoid the formation of cracks on the deposits. Off time in the pulse plating relieved the residual stress of the Rh deposits and consequently the current conditions for the crack-free Rh deposits were obtained. Optimum pulse current (PC) condition is 5:5 (on:off) for the crack-free Rh electroplating.
목차
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
References
해당간행물 수록 논문
- 돌리테스트로 고분자 코팅층과 금속 피착재의 접착강도 측정시 영향인자에 대한 연구
- 유연 반도체 패키지 접속을 위한 폴리머 탄성범프 범핑 공정 개발 및 범프 변형 거동 분석
- 펄스도금법을 이용한 고내마모성 로듐 도금층 형성에 관한 연구
- 근적외선 형광 영상 시스템용 다채널 영상 모듈 개발 및 패키징
- Double Exposure Laser Interference Lithography for Pattern Diversity using Ultraviolet Continuous-Wave Laser
- ZnO 초박막의 두께 변화에 따른 구조적, 전기적, 광학적 특성 변화 연구
- Chemically Bonded Thermally Expandable Microsphere-silica Composite Aerogel with Thermal Insulation Property for Industrial Use
- 플라즈모닉 구조를 위한 은 증착 두께에 따른 광 특성 해석 연구
- 오류정정
- 열간압출을 이용한 고신뢰성 n형 Bi-Te-Se계 열전소자 제조
참고문헌
교보eBook 첫 방문을 환영 합니다!
신규가입 혜택 지급이 완료 되었습니다.
바로 사용 가능한 교보e캐시 1,000원 (유효기간 7일)
지금 바로 교보eBook의 다양한 콘텐츠를 이용해 보세요!