PET 기판 위에 스퍼터 압력 변화에 따라 제조된 ITO 박막의 특성에 관한 연구

• 영문명: A Study on the Properties due to Sputter Pressure of ITO Thin Films Prepared on the PET Substrate
• 발행기관: 한국산업기술융합학회(구. 산업기술교육훈련학회)
• 저자명: 장동수(Dong-Su Jang) 권명현(Myeong-Hyun Kwon)
• 간행물 정보: 『산업기술연구논문지』산업기술교육훈련논문지 제17권 2호, 71~75쪽, 전체 5쪽
• 주제분류: 공학 > 공학일반
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2012.06.30

영문 초록

We prepared ITO films on PET substrate by DC magnetron sputtering method using powdery target with different sputter pressure. The deposited rate, XRD(x-ray diffraction), resistivity, transmittance and reflectance were investigated. As the sputtering pressure was higher, the resistivity of ITO films increased. As the working pressure increased, the optical transmittance improved at visible region of light.

목차

Ⅰ. 서 론

Ⅱ. 실험방법

Ⅲ. 실험결과 및 고찰

Ⅴ. 결 론

키워드

ITO(Indium Tin Oxide)Ffilms Sputtering Pressure(스퍼터링 압력) PET(폴리에틸렌테레프탈레이드) DC Magnetron Sputter TCO(Transparent Conducting Oxides : 투명 전도성 산화물)