국내 및 국제적 지식확산의 기술추격 - 미국특허 자료를 이용한 한국과 대만의 디램 산업 비교 -

• 영문명: Inter- and Intra-National Knowledge Diffusion and Technological Catch-up: Korea and Taiwan inD-RAM Industry
• 발행기관: 한국경제발전학회
• 저자명: 이근(Keun Lee) 윤민호(Minho Yoon)
• 간행물 정보: 『경제발전연구』경제발전연구 제10권 제2호, 115~141쪽, 전체 29쪽
• 주제분류: 경제경영 > 경제학
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2004.12.01

국문 초록

D-RAM 산업은 초기 Intel, Texas Instrument, Micron, IBM 등 미국 기업들에 의해 주도되었고, 80년 중반 이후 일본의 복합 대기업들이 진입하였고, 그 이후 삼성 등 한국의 재벌계가 90년 초반 진입하여 특허를 내기 시각하고 90년 대 중반에는 UMC, TSMC 등 대만 기업들의 특허가 나오기 시작 한다. 본 연구에서는 여러 가지 특허 통계 지표를 통해 한국과 대만의 디램 산업 산업에서 선후발 기업간의 지식의 흐름과 이전 경로들 분석해 보았다. Hu and Jaffe (2001)은 미국 특허청에 등록한 한국과 대만의 특허 인용 분석을 통해 한국은 일본 특허를 많이 인용하고 대만은 미국과 일본으로부터 비슷한 비율로 인용한다는 사실을 밝힌 바 있다. 그러나 본 연구에서의 결과는 한국이 일본 특허를 많이 인용하는 것은 동일했으나 대만의 경우 미국이나 일본보다는 후발 주자인 한국 특허를 많이 인용했음을 발견했다. 이는 디램 산업의 발달이 미국-일본-한국-대만으로 이어졌음을 고려할 때, 후발 진입자는 아주 멀리간 선구자보다는 자기 바로 앞 단계의 기업을 인용한다는 가설을 시사한다. 본고에서는 이 가설과 같이 실제로 일본기업은 메모리 산업 진입 직후 초시 5년간 미국에 대한 인용이 높으며, 그 다음으로 진입한 한국기업은 진입 초기 5년간 일본에 대한 인용이 높음을 확인하여, ‘바로 앞의 기업/국가 인용’ 이라는 지식확산과 홍수의 단계론을 확인하였다. 한편, 국내 기업들간의 지식 파급과 확산 과정을 보면, 한국의 재벌 기업들은 상호 독립 전략을 취하여 상호산의 특허 인용이 적은 반면, 네트워크 전략을 취하는 대만들은 상호 간에 특허인용이 활발하였음을 발견했다. (JEL O30)

영문 초록

This paper investigates the pattern of international and intra-national knowledge diffusion in the process of technological catch-up by the Korean and Taiwan finns in the DRAM industry. The main findings are as follows. First, the directions and channels of knowledge flows among the finns in the DRAM industry are examined. Hu and Jaffe (2003) found that Korea has had strong tendency to cite Japanese patents, while Taiwan has been apt to cite equally both the US and Japanese patents by similar proportion. This paper, focusing on the specific industry of DRAM, has revealed a slightly different finding that while Korea's DRAM patents cite more of the preceding Japanese patents, the Taiwanese DRAM patents tend to cite more of the Korean patents, in addition to the patents by the us and Japan. We also find that the Japanese finns tended to cite more of the us patents during the first 5 years of their entry into the industry. These patterns verify the hypothesis that the entrant finns tend to learn from and rely on the leader which are just ahead of them rather than those far ahead of them. In other words, the ordering of citations are exactly the same as the order of entry into the industry, namely, Taiwanese to cite Koreans, Koreans to cite Japanese, and Japanese to Americans. Second, regarding the process of knowledge spillovers and diffusion across domestic firms, Korean firms characterized by mutually independent strategies tend to cite very little of each other's patents, whereas Taiwanese finns with their network-oriented strategies often cite each other's patents. In addition, although it was found that R&D in Korea's DRAM industry has been led by private firms from the beginning, Taiwan's DRAM industry in the initial stages was led by the government. That is, in Korea, most of the DRAM patents are by Samsung, Hyundai, and LG, that is Chaebols, while most of Taiwanese DRAMpatents in the initial stage were by the ITRI, a government affiliated research institute.

목차

국문요약

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 자료

Ⅲ. 한국과 대만의 기술 경쟁력

Ⅳ. 국내 기업간 지식확산과 연구개발 전략: 한국과 대만의 차이

Ⅴ. 국제적 지식확산과 기술 추격

Ⅵ. 결론

참고문헌

Abstract