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학술논문

응용미술과 디자인의 권리 보호 체계

이용수 100

영문명
The Protection System of Applied Art and Design - The cumulative application of Copyright Law and Design Law
발행기관
원광대학교 법학연구소
저자명
이동기(Lee, Dong - Ki)
간행물 정보
『원광법학』제24권 제3호, 443~468쪽, 전체 25쪽
주제분류
법학 > 법학
파일형태
PDF
발행일자
2008.09.30
5,800

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1:1 문의
논문 표지

국문 초록

영문 초록

The recent Amendments to the Copyright Law extended the copyrightability of works of applied art. These Amendments give designers freedom to broaden the scope and conditions of copyright protection. So there would be many cases it is possible to obtain cumulative protection in relation to the copyright and design regimes in Korea. There are various forms that cumulative protection of design or applied art takes. In France and some EU members states full cumulative protection has been adopted. Other countries provide partially cumulative protection where only previously registered designs may also be subject to copyright protection if they meet certain condition. ( e.g. By satisfying the 'separability' test.) In our legal system the principle of cumulation with copyright and design protection have to be harmonized. It is necessary to find a possible solution by reviewing synthetically the Copyright Law and Design Law.

목차

Ⅰ. 서
Ⅱ. 응용미술과 디자인의 법적 개념
Ⅲ. 응용미술에 대한 저작권법과 디자인보호법의 중첩 보호
Ⅳ. 디자인 및 응용미술저작물의 권리 보호 방법에 관한 입법례
Ⅳ. 결 어 - 디자인의 보호에 대한 우리 법 체계의 문제점과 해결 방안
참고문헌
Abstract

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이동기(Lee, Dong - Ki). (2008).응용미술과 디자인의 권리 보호 체계. 원광법학, 24 (3), 443-468

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이동기(Lee, Dong - Ki). "응용미술과 디자인의 권리 보호 체계." 원광법학, 24.3(2008): 443-468

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