다공성 탄소전극기지상의 무전해 니켈도금에 관한 연구

• 영문명: Electroless Nickel Plating on Porous Carbon Substrate
• 발행기관: 한국마이크로전자및패키징학회
• 간행물 정보: 『마이크로전자 및 패키징학회지』제17권 제1호, 75~80쪽, 전체 6쪽
• 주제분류: 공학 > 산업공학
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2010.03.31

국문 초록

다공성 탄소전극기지 위의 무전해 니켈도금에 관한 연구를 하였다. 다공성 탄소전극기지로는 다공도가 20 µm 이상인 것과 16~20 µm 인 것을 사용하였다. 소수성인 탄소 표면은 60℃ 이상의 암모니아 용액에 침적함으로써 그 표면성질이 친수성으로 변화 되었고, 40분 이상 침적 시 접촉각이 20o 이하까지 측정 되었다. 도금욕의 pH가 증가됨에 따라 탄소기지 위에 도금된 니켈 도금층의 인의 석출량은 감소하였으며 니켈 도금층이 결정질 구조를 갖는 현상이 관찰되었다. 도금층의 두께는 pH가 증가함에 따라 증가하였다. 활성화 처리를 위한 PdCl₂의 농도에 따른 도금층의 두께 변화는 없었으나, 도금에 필요한 PdCl₂의 최소농도는 5 ppm 이상인 것으로 나타났다.

영문 초록

Electroless nickel plating on porous carbon substrate was investigated. The pore sizes of carbon substrates were 16-20 µm and over 20 µm. The carbon surface was changed from hydrophobic to hydrophilic after immersing the substrate in an ammonia solution for 40 min at 60℃. The contact angle of water was decreased from 85o to less than 20o after ammonia pretreatment. The content of phosphorous in nickel deposit was decreased with increasing pH and then deposits became crystallized. The thickness of nickel deposit was increased with increasing pH. The minimum concentration of PdCl₂ for the electroless nickel plating was 5 ppm and the thickness of nickel was not significantly affected by the concentration of PdCl₂.

목차

1. 서론

2. 실험 방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

감사의 글

참고문헌

키워드

electroless nickel plating porous carbon MCFC palladium chloride