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학술논문

초고집적 구리 배선을 위한 새로운 펄스 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 텅스텐 나이트라이드 확산 방지막

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영문명
Tungsten Nitride Diffusion Barrier with using New Pulse Plasma Atomic Layer Deposition for Ultra Large Scale Integration Copper Interconnection
발행기관
한국마이크로전자및패키징학회
저자명
간행물 정보
『한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집』2004년도 추계 기술심포지움 초록집, 27~27쪽, 전체 1쪽
주제분류
공학 > 산업공학
파일형태
PDF
발행일자
2004.11.30
무료

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APA

. (2004).초고집적 구리 배선을 위한 새로운 펄스 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 텅스텐 나이트라이드 확산 방지막. 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집, 2004 (11), 27-27

MLA

. "초고집적 구리 배선을 위한 새로운 펄스 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 텅스텐 나이트라이드 확산 방지막." 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집, 2004.11(2004): 27-27

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