학술논문
감마선, 전자선에 의한 멸균효과 비교분석
이용수 71
- 영문명
- Comparative Study of Sterilization by Gamma-ray and Electron-Beam
- 발행기관
- 한국방사선학회
- 저자명
- 정경환(Kyeonghwan Jeong) 박창희(Changhee Park)
- 간행물 정보
- 『한국방사선학회 논문지』 제14권 제5호, 537~543쪽, 전체 7쪽
- 주제분류
- 공학 > 기타공학
- 파일형태
- 발행일자
- 2020.10.30
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국문 초록
현대사회의 노인 인구는 첨단 의료기술과 최소 침습 수술로 인해 빠르게 성장하고 있다. 따라서 의료기기를 사용하는 경향이 증가하기 때문에 병원성 감염이 우려된다. 따라서 현대 의학의 최우선 목표는 감염 예방이다. 최근 3D 프린팅을 이용하여 환자 맞춤형 임플란트 이식술이 늘고 있다. 대표적 재료로 이용되는 것이 수산화인회석이다. 현재 HA 디스크 멸균을 위한 흡수선량 기준이 없으므로, HA 디스크 표면에 오염된 대장균과 충치균을 감마선 코발트와 선형 가속기를 이용하여 각 흡수선량 0, 0.5, 1.0, 3.0, 5.0 k㏉로 조사 후, 십진 희석법으로 검체에서 균 수를 측정하였다. 멸균 후 대장균, 충치균의 생존 비교분석을 위해 비모수 검정법을 시행하였으며, 그 결과 대장균은 1 k㏉ 이상, 충치균은 3 k㏉ 이상에서 멸균되었다. 방사선 멸균 흡수선량 권고사항보다 낮은 수치에서 멸균을 시행하는 것도 가능할 것으로 생각된다.
영문 초록
The elderly population in the modern society is growing rapidly due to advance medical technology and minimally invasive surgery. Therefore, as the tendency to use medical device is increasing, pathogenic infection is a concern. Therefore, the first aim of modern medicine is infection prevention in medical place. Recently, patient implants are increasing using 3D printing. Hydroxyapatite is used as a representative material. And, there haven’t had currently absorbed dose standard for sterilization of hydroxyapatite discs. Escherichia coli and Streptococcus mutans contaminated on the surface of hydroxyapatite discs were irradiated at each absorbed dose of 0, 0.5, 1.0, 3.0, 5.0 k㏉ using Gamma-ray of cobalt and Electron-beam of linear accelerator. Then, the number of bacteria was measured in the sample by the decimal dilution method. After sterilization, a non-parametric testing method was performed to compare the survival of Escherichia coli and Streptococcus mutans. As a result, Escherichia coli was sterilized at 1 k㏉ or more and Streptococcus mutans at 3 k㏉ or more on absorbed dose. It is considered possible to perform sterilization at a lower value than the recommended absorbed dose of radiation sterilization.
목차
I. INTRODUCTION
II. MATERIAL AND METHODS
III. RESULT
IV. DISCUSSION
V. CONCLUSION
Reference
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