대면적 3차원 고분자 미세구조 형성에 관한 연구

• 영문명: A Study on Formation of Large-Area Three-Dimensional Polymeric Structure
• 발행기관: 호서대학교 공업기술연구소
• 저자명: 서동철(Dongchul Suh)
• 간행물 정보: 『공업기술연구 논문집』제37권 제1호, 15~21쪽, 전체 7쪽
• 주제분류: 공학 > 공학일반
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2018.06.30

국문 초록

원판 몰드의 패턴이 음각이거나 패턴간의 높낮이 차이가 큰 경우에는 만족스러운 고분자 패턴을 얻기 어렵고, 높은 공정 압력을 필요로 하는, 각인 리소그래피법의 문제점을 해결하기 위한 방법으로 모세관력 리소그래피법을 포함한 여러 나노 패터닝 기법을 소개한다. 유리 전이 온도 이상으로 가열한 고분자 박막에 유동성을 가해 미세 패터닝이 가능하지만 속도가 느린 모세관력 리소그래피를 비롯하여, 고분자를 용매에 녹인 상태에서 바로 탄성체 몰드를 접촉시켜 빠른 시간 안에 패터닝이 가능한 연성 성형법 등을 통해 기존 공정에서 3차원 구조를 제작할 때 발생하는 관련 문제를 해결할 수 있다.

영문 초록

In order to solve the problems of the imprint lithography method which is difficult to obtain a satisfactory polymer pattern and requires a high process pressure when the original mold is negative-type or has a large difference in height between the patterns, and several nano patterning techniques including capillary force lithography are introduced. Capillary force lithography can perform fine patterning with a low speed by applying fluidity to a polymer thin film heated to a glass transition temperature or higher. However, in a soft molding method a polymer can be directly contacted with an elastomer mold in a solvent. Various polymer fine pattering techniques can solve related problems that arise when a three-dimensional structure is manufactured in a typical process.

목차

요약

ABSTRACT

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 모세관력 리소그래피 (capillary force lithography, CFL)

Ⅲ. 연성 성형법(soft molding)

Ⅳ. Decal transfer microlithography(DTM)

Ⅴ. 광결합 마스크(light-coupling mask, LCM)

Ⅵ. 나노 전사식 인쇄법 (nanotransfer printing, nTP)

Ⅶ. 결론

참고문헌

키워드

Capillary Force Lithography Soft molding Elastomer Polydimethlysiloxane