증착조건이 질화탄소 박막의 표면구조 및 광학적 특성에 미치는 효과

• 발행기관: 강원대학교 기초과학연구소
• 저자명: 이호근 김기담 진대용 김영호
• 간행물 정보: 『기초과학연구』제15집, 121~127쪽, 전체 7쪽
• 주제분류: 자연과학 > 자연과학일반
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2004.12.01

국문 초록

  RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 질화탄소 박막을 제작하여 증착 때의 질소가스 압력(20 - 150 mTorr) 및 증착 기판의 온도 변화가 박막의 마이크로 표면구조 및 광학적 특성에 미치는 효과를 검토했다. 박막의 증착율은 질소가스의 압력이 높을 수록 감소했다. 박막의 표면구조는 질소가스의 압력이 작을 경우와 증착기판의 온도가 높을 때 상대적으로 조밀하고 균질해 짐을 알 수 있었다. 박막의 광학적인 특성은 기판을 가열하지 않은 상태에서 질소가스 압력이 80 mTorr에서 150 mTorr로 변할 때 1.82 eV 에서 1.94 eV 로 변화했으며, 150 mTorr의 기체압력에서 증착온도를 300℃로 높일 때 1.55 eV로 갑소됨을 관측했다.

목차

요약
1. 서론
2. 재료 및 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 사사
5. 참고문헌