Decoupled Plasma Nitridation에 의한 Flicker 노이즈 개선에 관한 연구

• 영문명: A study on Flicker Noise Improvement by Decoupled Plasma Nitridation
• 발행기관: 한국전자통신학회
• 저자명: 문성열(Seong-Yeol Mun) 강성준(Seong-Jun Kang) 정양희(Yang-Hee Joung)
• 간행물 정보: 『한국전자통신학회 논문지』제9권 제7호, 747~752쪽, 전체 6쪽
• 주제분류: 공학 > 전자/정보통신공학
• 파일형태: PDF
• 발행일자: 2014.07.30

국문 초록

본 논문은 0.13um 기술의 디자인을 10% 축소하는데 기존의 로직 디바이스만의 축소와는 달리 로직뿐 아니라 입, 출력 회로의 축소에 관한 것이다. 게이트 산화막(1.2V)을 decoupled plasma nitridation(DPN) oxide로 변경함으로써 flicker 노이즈를 축소 전 공정에 비해 1/3-1/5배 감소됨을 확인하였다. 또한, 축소에 의한 피할 수 없는 문제는 일반적인 metal insulator metal(MIM)의 캐패시터 문제이다. 이를 해결하기 위하여 20%높은 MIM 캐패시터(1.2fF/㎛2)를 개선하고 그 특성을 평가하였다.

영문 초록

This paper relates 10% shrink from 0.13㎛ design for logic devices as well as input and output (I/O) circuits, different from the previous shrink methodologies which shrink only core device. Thin gate oxide was changed to decoupled plasma nitridation(DPN) oxide as a thin gate oxide (1.2V) to reduce the flicker noise, resulting in three to five times lower flicker noise than pre-shrink process. Unavoidable issue by shrink is capacitor for this normally metal insulator metal (MIM). To solve this issue, 20% higher unit MIM capacitor (1.2fF/㎛2) was developed and its performance were evaluated.

목차

Ⅰ. Introduction

Ⅱ. Experimental

Ⅲ. Results and Discussion

Ⅳ. Conclusions

키워드

Flicker Noise Gate Oxide Shrink Flicker 노이즈 게이트 산화막 축소