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학술논문

차세대 반도체 표면 클리닝 기술들의 방법론적 비교 고찰

이용수 24

영문명
Methodological comparison of surface cleaning technologies for next generation semiconductors
발행기관
한국레이저가공학회
저자명
이종명 조성호 임생기 최재성
간행물 정보
『한국레이저가공학회 학술대회 논문집』2001년도 추계학술발표대회 논문개요집, 23~28쪽, 전체 6쪽
주제분류
공학 > 기계공학
파일형태
PDF
발행일자
2001.11.01
4,000원

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이 학술논문 정보는 (주)교보문고와 각 발행기관 사이에 저작물 이용 계약이 체결된 것으로, 교보문고를 통해 제공되고 있습니다.

1:1 문의
논문 표지

국문 초록

영문 초록

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 웨이퍼 클리닝 이슈
Ⅲ. 현세대 클리닝 기술
Ⅳ. 차세대 클리닝 기술
Ⅴ. 결론
Ⅵ. 참고 문헌

키워드

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APA

이종명,조성호,임생기,최재성. (2001).차세대 반도체 표면 클리닝 기술들의 방법론적 비교 고찰. 한국레이저가공학회 학술대회 논문집, 2001 (3), 23-28

MLA

이종명,조성호,임생기,최재성. "차세대 반도체 표면 클리닝 기술들의 방법론적 비교 고찰." 한국레이저가공학회 학술대회 논문집, 2001.3(2001): 23-28

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